【05.12 讲座】半导体中光学邻近效应的解决

题目：半导体中光学邻近效应的解决

报告人：张瑞

主持人：刘世元 教授

地点：beat365手机版官方网站（先进制造大楼）B214

时间：2015年5月12日（周二）上午9:00

报告摘要：

    介绍半导体制造过程中所面临的光学邻近效应，以及为解决该效应所采用的OPC技术；

    对Mentor Graphics所提供的OPC解决方案加以介绍；

    对半导体制造过程中的Tape Out过程加以介绍；

    对Mentor Graphics所提供的DFM解决方案加以简单介绍。

报告人简介：

    Mentor Graphics是电子设计自动化技术的领导厂商，提供完整的软件和硬件设计解决方案，让客户能在短时间内，以最低的成本，在市场上推出功能强大的电子产品。当今电路板与半导体元件变得更加复杂，并随着深亚微米工艺技术在系统单芯片设计的深入应用，要把一个具有创意的想法转换成市场上的产品，其中的困难度已大幅增加。为此Mentor Graphics提供了技术创新的产品与完整解决方案，让工程师得以克服他们所面临的设计挑战。

学术报告宣传信息投稿信箱：17772719@qq.com 

欢迎各位老师投稿以便提前宣传讲座信息