[设备]光谱椭偏仪

  功能介绍    

椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等。椭偏仪测量精确度高、且不破坏薄膜。

技术特点：具有多种参数模型，如NK模型、柯西模型、EMA模型等。

1.测量的对象广泛,可以测量透明膜,无膜固体样品,多层膜,吸收膜和众多性能不同、厚度不同、吸收程度不同的薄膜,甚至是强吸收的薄膜。

2.被测量的薄膜大小尺寸可以很小,只要1mm即可测量,小于光斑的大小。

3.方式灵活,既可以测量反射膜,也可以测量透射膜v

4.测量的速度很快。

5.在各种粒子束分析测试技术中,光束引起的表面损伤以及导致的表面结构改变是最小的。

  主要技术参数 

·测量模式:基态上的非原位操作，腔体原位操作。

·波长范围:245-1000nm

·光源类型:FLS

·光源接收:Single

·光谱范围:193-1000nm，500个波长

·聚焦光斑尺寸:25μm X60μm

·最大样品尺寸:300mm直径；最大样品厚度:15mm

·软件:SENTECH控制软件, 包含图形界面，recipe控制操作，功能强大的recipe编辑器和数据资料记录。

  应用范围 

椭偏仪利用椭偏术测量薄膜的光学膜层厚度和光学常数、半导体及其氧化物成分的折射率和厚度、润滑层的厚度和表面粗糙度等；也可被用来监控粗糙多晶表面上的膜层生长，实现均匀镀膜等。涉及的材料涵盖各种不同材料（半导体、金属、电介质、有机物等），可以应用到物理、化学、材料学、微电子技术、薄膜技术、冶金学、天文学、生物和医学等方面。